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8K\4K等高世代液晶面板渗透率攀升,铜制程逐渐取代铝制程。铜蚀刻液功用在于控制铜蚀刻的方向性以及调控铜被蚀刻的速率,藉此蚀刻出平整的铜导线。

光华的铜蚀刻液在蚀刻mate 1的基础下,在mate 2更复杂的制程中实现有选择性的蚀刻,提供优异的铜蚀刻负载量,为面板行业在良率上提高一倍,即使在高铜离子浓度下亦可维持稳定蚀刻表现。

环保易处理、IGZO damage free、安全性高、高铜离子负载(>1000ppm)、无金属残留、高精细线化控制、CD loss~0.7μm

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